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Metal/III-V Diodes Engineered by means of Si Interlayers: Interface Reactions versus Local Interface Dipoles
BONANNI B.
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ORANI D.
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LAZZARINO M.
altro
FRANCIOSI, ALFONSO
2001
journal article
Periodico
APPLIED PHYSICS LETTERS
Archivio
http://hdl.handle.net/11368/1694135
Diritti
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