Deep X-ray lithography at ELETTRA using a central beam-stop to improve structure adhesion on the substrate

PERENNES F

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PANTENBURG F. J.

2002

journal article

Periodico

MICROSYSTEM TECHNOLOGIES

DOI

10.1007/S00542-001-0161-7

WOS

WOS:000178073000019

Archivio

http://hdl.handle.net/11368/1689754

info:eu-repo/semantics/altIdentifier/scopus/2-s2.0-0036693379

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Mar 12, 2024

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Apr 19, 2024